晶圆外观检测系统
WAFER CHIP INSPECTION SYSTEM
Chroma 7940
主要特点
■可同时检测正反两面晶圆
■***大可检测6吋扩膜晶圆 (检测区域达8吋范围)
■可因应不同产业的晶粒更换或新增检测项目
■上片后晶圆自动对位机制
■自动寻边功能可适用于不同形状之晶圆
■瑕疵规格编辑器可让用户自行编辑检测规格
■瑕疵检出率高达98%
■可结合上游测试机晶粒数据,合并后上传至下一道制程设备
■提供检测报表编辑器,用户可自行选择适用数据并进行分析
应用范围 - 使用在垂直结构LED制程&垂直腔面发射激光器VCSEL制程
★发光二极管正面检查项目
- 电极缺陷 Pad Defect - 切割道异常 Mesa Abnormality
- 电极残留 Pad Residue - 磊晶缺陷 Epi Defect
- 发光区剥落 ITO Peeling - 崩缺 Chipping
- 断线 Finger Broken - 晶粒残留 Chip Residue
★發光二極體背面檢查項目
- 切割不良 Dicing Abnormality
- 晶邊崩缺 Chipping
- 電極凸點 Pad Bump
- 失金 Metal Lack
★VCSEL正面檢查項目
- 焊墊缺陷 Pad Defect - 邊線異常 Mesa Abnormality
- 焊墊刮傷 Pad Scratch - 磊晶缺陷 Epi Defect
- 發光區缺陷 Emitting Area Defect -崩邊 Chipping
- 剝落 Peeling - 晶粒殘留 Chip Residue
★VCSEL背面检查项目
- 切割异常 Dicing Abnormality
- 焊垫突起 Pad Bump
- 崩边 Chipping
- 剥落 Metal Lack
规格表